Siliziumteile für Ofen-Prozesse

Siliziumteile für LPCVD und Hochtemperaturofen-Prozesse.

  • Weniger Partikel als vergleichbare Teile aus Quarz oder SiC
  • 3-5 fach längere Standzeit bis zur nächsten Reinigung
  • 170 µm Si3N4 auf Boot
  • 100 µm Poly auf dem Boot